關(guān)于荷蘭政府宣布即將出臺的半導(dǎo)體設(shè)備出口限制的信息，ASML在官網(wǎng)發(fā)布了關(guān)于荷蘭增加出口管制的聲明。ASML表示，這些新的出口管制主要針對先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積和浸沒式光刻工具。由于這些即將出臺的法規(guī)，ASML將需要申請出口許可證才能裝運(yùn)最先進(jìn)的浸沒式DUV系統(tǒng)。

同時公司還表示“新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng)，先進(jìn)程度相對較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求?！?/span>

根據(jù)ASML財(cái)報(bào)，2022年該公司共出貨345臺光刻系統(tǒng)，其中有81臺浸沒式DUV光刻機(jī)（ArFi），占比為23%。所有產(chǎn)品中，42%銷往中國臺灣，29%銷往韓國，14%銷往中國大陸，銷往美國的只有7%。

此前，荷蘭方面在3月8日表示，計(jì)劃對半導(dǎo)體技術(shù)出口實(shí)施新的管制。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實(shí)施。

ASML聲明如下：

荷蘭政府于今日發(fā)布了有關(guān)即將出臺的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施的進(jìn)一步的信息。這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)。

由于該等即將出臺的法規(guī)，ASML將需要申請出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式DUV系統(tǒng)。

這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。

基于今日的公告、我們對荷蘭政府許可證政策的預(yù)期以及當(dāng)前的市場形勢，我們預(yù)計(jì)這些管制措施不會對我們已發(fā)布的2023年財(cái)務(wù)展望以及于去年11月投資者日宣布的長期展望產(chǎn)生重大性影響。

需要重點(diǎn)指出的是：新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng)，而只涉及所謂“最先進(jìn)”的浸潤式光刻系統(tǒng)。盡管我們尚未收到有關(guān)“最先進(jìn)”的確切定義的信息，我們將其解讀為我們在資本市場日會議上定義的“關(guān)鍵的浸潤式光刻系統(tǒng)”，即TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。此外，我們要指出，先進(jìn)程度相對較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。最后，ASML的長期展望的基礎(chǔ)是全球長期需求和技術(shù)趨勢，而不是對具體地域的預(yù)期。

自2019年以來，ASML的EUV光刻系統(tǒng)已經(jīng)受到限制。